日本ADEKA近日宣布，投资约25亿日元的千叶工厂EUV光刻胶用光酸新厂房已完工，并举行了竣工仪式。

据了解，该生产大楼总建筑面积1698平方米，计划2023年8月正式投产。新设施将使ADEKA的EUV光刻胶光酸的生产能力增加一倍以上。

在先进的半导体工艺中，含有光酸产生剂的化学增幅光刻胶被广泛用于提高 EUV 和 DUV 曝光期间电路图案的分辨率。在该机理中，在曝光过程中通过光产生酸，酸在随后的热处理过程中起到催化剂的作用，促进作为抗蚀剂主要成分的聚合物树脂的反应，提高分辨率。

由于逻辑器件工艺的小型化趋势，预计 EUV 光刻胶的需求将增加，因此于 2021 年 8 月决定了新生产大楼的建设计划。ADEKA公司计划以新大楼为契机，引进新的工艺技术，通过引进尖端设备提高质量控制能力，实现低于1ppb的低金属管理。此外，该公司还引进了承担下一代新产品的生产设备。 

ADEKA集团的目标是通过扩大其逻辑半导体业务以及扩大其主要产品半导体存储器材料，发展成为世界一流的半导体材料制造商。