申请公布号：CN121045979A

申请人：太仓迪科力科技有限公司

摘要：本申请涉及胶粘材料技术领域，具体公开了一种半导体制程用高洁净度揭膜胶带及其制备工艺。一种半导体制程用高洁净度揭膜胶带包括PET膜层、离型层和胶粘层；离型层原料包括：含氟聚醚‑有机硅接枝共聚物、纳米二氧化钛和全氟丁基磺酸钾；胶粘层原料包括：丙烯酸酯40‑60份、聚氨酯30‑50份、甲苯10‑20份、二异氰酸酯5‑8份、过氧化二苯甲酰3‑5份、橡胶微粒10‑20份、季铵盐改性蒙脱土5‑9份、聚肉桂酸乙烯酯10‑20份、光引发剂1‑3份和聚乙烯醇缩丁醛3‑8份。本申请的高洁净度揭膜胶通过设置离型层和特殊组分的胶粘层，使得胶带同时具备高粘性、易解卷和无残胶、高洁净度的优点。