6月30日，上海新阳半导体材料股份有限公司（以下简称“上海新阳”）发布公告称，公司自主研发的KrF（248nm）厚膜光刻胶产品近日已通过客户认证，并成功取得第一笔订单。

此次上海新阳光刻胶产品取得首笔订单可谓意义重大。对此上海新阳表示，光刻胶材料是集成电路制造领域的重要关键材料，广泛应用于350nm-14nm甚至7nm技术节点的集成电路制造工艺。随着国内晶圆厂建设的不断增多，以及国外光刻胶巨头产能受限，供需紧张，国内对光刻胶产品的需求也将快速增长，公司光刻胶产品的订单取得意义重大，将对公司该类产品的认证及销售产生积极的作用，有利于公司业务的长期发展。

上海新阳

上海新阳创立于1999年7月，2011年6月在深圳证券交易所创业板上市，是国内知名的半导体材料厂商，二十年来，经过不断地创新，形成了拥有完整自主可控知识产权的电子电镀和电子清洗两大核心技术。其开发研制出的140多种电子电镀与电子清洗系列功能性化学材料，被广泛应用于集成电路制造、3D-IC先进封装、IC传统封测等领域，满足芯片铜制程90-28nm工艺技术要求。

据悉，光刻技术是上海新阳正在加快开发的第三大核心技术，并且已经取得了重大突破。

此前的年报显示，上海新阳集成电路制造用ArF干法、KrF厚膜胶、I线等高端光刻胶验证工作正在稳步推进，部分光刻胶产品已取得优异的线外测试数据。

年报披露，上海新阳采购的用于I线光刻胶研发的Nikon-i14型光刻机，用于KrF光刻胶研发的Nikon-205C型光刻机，用于ArF干法光刻胶研发的ASML-1400型光刻机，以及用于ArF浸没式光刻胶研发的ASML XT 1900 Gi型光刻机已全部到厂。

上海新阳指出，光刻机设备的陆续到位，有助于加速推动公司在光刻技术的全产业链布局及开拓；同时公司加大在晶圆及先进封装湿制程设备领域的投资布局。